12月25日，国产光刻机领域再传新动态，引发广泛关注。在中国政府采购网发布的编号为zycgr22011903的采购公告中显示，科学技术部采用单一来源方式，采购一台步进扫描式光刻机，中标金额达1.099亿元，中标单位为上海微电子装备（集团）股份有限公司，设备型号为SSC800/10。截至发稿前，该公告仍可查，但其详细页面已无法正常访问。值得注意的是，“SSC800”这一型号此前从未在公开渠道披露。有业内人士联想到此前网络流传的SSA800型号——曾被提及为面向28nm工艺节点的光刻设备，推测SSC...
12月25日，国产光刻机领域再传新动态，引发广泛关注。在中国政府采购网发布的编号为zycgr22011903的采购公告中显示，科学技术部采用单一来源方式，采购一台步进扫描式光刻机，中标金额达1.099亿元，中标单位为上海微电子装备（集团）股份有限公司，设备型号为ssc800/10。
截至发稿前，该公告仍可查，但其详细页面已无法正常访问。
值得注意的是，“SSC800”这一型号此前从未在公开渠道披露。有业内人士联想到此前网络流传的SSA800型号——曾被提及为面向
28nm工艺节点的光刻设备，推测SSC800或与其同属新一代技术平台。
但需明确指出的是，所谓“28nm光刻机”的提法并不严谨。根据芯智讯等专业信源核实，SSC800实际采用248nm KrF光源，标称分辨率为110nm，套刻精度为15nm。
回溯至2025年9月，工信部发布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2025年版）》中，列出了两类氟化氩（ArF）光刻机：均使用193nm光源，其中浸没式机型分辨率≤65nm、套刻精度≤8nm；而干式机型则对应分辨率≤110nm、套刻精度≤25nm。
由此判断，本次中标的SSC800/10应属干法光刻机范畴，并非市场热议中的高阶浸没式或EUV设备，也尚未达到业界对先进制程光刻能力的普遍期待。
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